建模過(guò)程
1.【上視基準(zhǔn)面】畫圓。
2.【拉伸凸臺(tái)】給定深度：30或50 。
3.【前視基準(zhǔn)面】畫矩形，添加：中點(diǎn)幾何關(guān)系。
3-1.添加標(biāo)注。
4.【包覆】包覆類型：蝕雕 ；包覆方法：分析 ；深度：0.1 。
5.【圓周陣列】特征，方向：藍(lán)色面 ；實(shí)例間距：1度 ，數(shù)量：10 。
6.【移動(dòng)面】選擇藍(lán)色面，向下@距：3 。
7.【移動(dòng)面】選擇第六個(gè)藍(lán)色面，向下@距：1.5。
8.【圓周陣列】實(shí)例間距：10度 ，數(shù)量：36個(gè)；特征：包覆1、圓周陣列1、兩個(gè)移動(dòng)面 ；勾選：幾何體陣列 。
9.【前視基準(zhǔn)面】畫草圖。
9-1.把上方得角度改為：0.001度 ，并復(fù)制左側(cè)得標(biāo)注名稱 。（角度不能用0度）
9-2.【草圖文字】選擇直線，粘貼名稱（添加英文輸入法得：" "），修改：文字高度：3。（文字目前還有小數(shù)點(diǎn)）
10.軟件右下角——敬請(qǐng)關(guān)注輯文檔單位，角度小數(shù)：無(wú) 。
10-1.雙擊文字，小數(shù)消失。
11.【包覆】。
12.【圓周陣列】實(shí)例間距：10，數(shù)量：36 。
12-1.勾選：變化得實(shí)例，選擇：0度標(biāo)注，增量：10 。（這一步非常慢，注意提前保存）
13.性能評(píng)估，上一個(gè)圓周陣列用時(shí)很長(zhǎng)。
14.完成。
